Grafen Filmin Özellikleri |
|
| Saydamlık : | > 95 % |
| Kapsama Alanı : | > 93% |
| Kalınlık (teorik) : | 0.340 nm |
| Levha Direnci : | 500-530 Ohms/sq |
| Parçacık Boyutu: | 6-10 μm |
SiO2/Si Substrat’ ın Özellikleri |
|
| Kuru Oksit Kalınlığı : | 300 nm |
| Tip | P/N |
| Oryantasyon: | <100> |
| Öz Direnç : | 0.001 – 0.01 |
| Kalınlık : | 525 +/- 20 μm |
| Ön Yüzey : | Tek tarafı cilalı |
Uygulama Alanı:
| Grafen araştırması; süperkapasitörler; Katalizör; Güneş enerjisi; Grafen optoelektronik, plazmonik ve nanophotonik; Grafen yarı iletken çipleri; İletken grafen filmi; Grafen bilgisayar belleği; Biyomalzemeler ve Biyoelektronik |
Hazırlama Yöntemi: (Si/Si02 Substratındaki Grafen aşağıdaki aşamalarla hazırlandı:
|
| 1) Bakır folyoda yetişen tek katmanlı grafen |
| 2) PMMA çökeltme ve kür işlemi |
| 3) Aşındırma işlemi ile Cu çıkarın |
| 4) PMMA/Grafeni DI suyla yıkayın |
| 5) PMMA/Grafeni Si substrat üzerinde tekrar çökeltme ve kürleme işlemi |
| 6) PMMA asetonla çıkarın |
Reviews
There are no reviews yet.